作者: K. Hirakawa, H. Sakaki, J. Yoshino,
期刊: Journal of Vacuum Science&Technology B: Microelectronics Processing and Phenomena (AIP Available online 1985) 卷期: Volume 3, issue 2
页码: 798-799
ISSN:0734-211X
年代: 1985
DOI:10.1116/1.583105
出版商: American Vacuum Society
数据来源: AIP
点击下载: PDF (97KB)
返 回
版权所有 © 2009 NSTL国家科技图书文献中心
咨询热线:800-990-8900 010-58882057 Email:service@nstl.gov.cn
地址:北京市复兴路15号 100038 京ICP备05017586号