Two Chemical Stains for Markingp‐nJunctions in Silicon

 

作者: Peter J. Whoriskey,  

 

期刊: Journal of Applied Physics  （AIP Available online 1958）
卷期: Volume 29, issue 5  

页码: 867-868

 

ISSN:0021-8979

 

年代: 1958

 

DOI:10.1063/1.1723306

 

出版商: AIP

 

数据来源: AIP

 

 

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