Analysis of Radiation‐Enhanced Diffusion of Aluminum in Silicon

 

作者: Tadatsugu Itoh,   Iwao Ohdomari,  

 

期刊: Journal of Applied Physics  （AIP Available online 1970）
卷期: Volume 41, issue 1  

页码: 434-436

 

ISSN:0021-8979

 

年代: 1970

 

DOI:10.1063/1.1658370

 

出版商: AIP

 

数据来源: AIP

 

 

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