Comment on ‘‘Iron diffusivity in silicon: Impact of charge state’’ [Appl. Phys. Lett.66, 860 (1995)]

 

作者: T. Heiser,   A. Mesli,  

 

期刊: Applied Physics Letters  （AIP Available online 1996）
卷期: Volume 68, issue 13  

页码: 1868-1869

 

ISSN:0003-6951

 

年代: 1996

 

DOI:10.1063/1.116040

 

出版商: AIP

 

数据来源: AIP

 

 

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