Summary Abstract: Photoablation of photoresist polymer thin films using synchrotron radiation

 

作者: Derrick C. Mancini,   James W. Taylor,   Charles E. Beall,  

 

期刊: Journal of Vacuum Science&Technology B: Microelectronics Processing and Phenomena  （AIP Available online 1988）
卷期: Volume 6, issue 1  

页码: 461-462

 

ISSN:0734-211X

 

年代: 1988

 

DOI:10.1116/1.583975

 

出版商: American Vacuum Society

 

关键词: photoresist

 

数据来源: AIP

 

 

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