On rapid thermal processing with quenching under controlled ambient or vacuum conditions

 

作者: A. Katz,   M. Albin,   Y. Komem,  

 

期刊: Journal of Vacuum Science&Technology B: Microelectronics Processing and Phenomena  （AIP Available online 1989）
卷期: Volume 7, issue 1  

页码: 130-132

 

ISSN:0734-211X

 

年代: 1989

 

DOI:10.1116/1.584437

 

出版商: American Vacuum Society

 

关键词: QUENCHING;ANNEALING;SILICON;COOLING;CRYSTAL DEFECTS;INTERFACE STRUCTURE

 

数据来源: AIP

 

 

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