Erratum: ‘‘Effects of strain on boron diffusion in Si and Si1−xGex’’ [Appl. Phys. Lett.66, 580 (1995)]

 

作者: P. Kuo,   J. L. Hoyt,   J. F. Gibbons,   J. E. Turner,   D. Lefforge,  

 

期刊: Applied Physics Letters  （AIP Available online 1995）
卷期: Volume 66, issue 10  

页码: 1293-1293

 

ISSN:0003-6951

 

年代: 1995

 

DOI:10.1063/1.114224

 

出版商: AIP

 

数据来源: AIP

 

 

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