Erratum: “Low-temperature (<450 °C), plasma-assisted deposition of poly-Si thin films on SiO2and glass through interface engineering” [J. Vac. Sci. Technol. A15, 1035 (1997)]

 

作者: D. M. Wolfe,   F. Wang,   S. Habermehl,   G. Lucovsky,  

 

期刊: Journal of Vacuum Science&Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films  （AIP Available online 1998）
卷期: Volume 16, issue 1  

页码: 207-207

 

ISSN:0734-2101

 

年代: 1998

 

DOI:10.1116/1.580973

 

出版商: American Vacuum Society

 

数据来源: AIP

 

 

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