Erratum: ‘‘An analytical study of etch and etch‐stop reactions for GaAs on AlGaAs in CCl2F2plasma’’ [J. Appl. Phys.61, 2358 (1987)]

 

作者: K. L. Seaward,   N. J. Moll,   D. J. Coulman,   W. F. Stickle,  

 

期刊: Journal of Applied Physics  （AIP Available online 1988）
卷期: Volume 64, issue 11  

页码: 6594-6594

 

ISSN:0021-8979

 

年代: 1988

 

DOI:10.1063/1.342040

 

出版商: AIP

 

数据来源: AIP

 

 

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