Erratum: “Etch-pit initiation by dissolved oxygen on terraces of H–Si(111)” [Appl. Phys. Lett.71, 1679 (1997)]

 

作者: Christopher P. Wade,   Christopher E. D. Chidsey,  

 

期刊: Applied Physics Letters  （AIP Available online 1998）
卷期: Volume 72, issue 1  

页码: 133-133

 

ISSN:0003-6951

 

年代: 1998

 

DOI:10.1063/1.120665

 

出版商: AIP

 

数据来源: AIP

 

 

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