Erratum: Kinetics of silicide formation in chromium‐amorphous silicon multilayered films [Appl. Phys. Lett.59, 449 (1991)]

 

作者: T. E. Schlesinger,   R. C. Cammarata,   S. M. Prokes,  

 

期刊: Applied Physics Letters  （AIP Available online 1991）
卷期: Volume 59, issue 14  

页码: 1799-1799

 

ISSN:0003-6951

 

年代: 1991

 

DOI:10.1063/1.106369

 

出版商: AIP

 

数据来源: AIP

 

 

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