Axial temperature distribution in Silicon‐Germanium grown by the RF‐heated float zone technique
作者:
D. Schulz,
J. Wollweber,
N. Darowski,
W. Schröder,
期刊:
Crystal Research and Technology
(WILEY Available online 1997)
卷期:
Volume 32,
issue 1
页码: 61-68
ISSN:0232-1300
年代: 1997
DOI:10.1002/crat.2170320106
出版商: WILEY‐VCH Verlag
数据来源: WILEY
摘要:
AbstractIm Konzentrationsbereich von 0 bis 25 at% Germanium wurde das Segregationsverhalten von Sili‐zium‐Germanium‐Einkristallen gezüchtet mit Hilfe des HF‐beheizten tiegelfreien Zonenschmelzver‐fahrens untersucht. Vollstündig versetzungsfreie Kristalle mit bis zu 8 at% Germanium wurden gezüchtet. Störungen des einkristalline Wachstum waren im wesentlichen auf konstitutionelle Unterkühlung zurückzuführen. Mittels pyrometrischer Temperaturmessung wurde der Anstieg der axialen Temperaturverteilung ΔT/ΔZin der Nähe der Wachstumsphasengrenze bestimmt und daraus die kritische Ziehgeschwindigkeit abgeleitet. Die Messungen zeigten, daß mit zunehmenden Germaniumgehalt der Temperaturgradient im
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