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Axial temperature distribution in Silicon‐Germanium grown by the RF‐heated float zone technique

 

作者: D. Schulz,   J. Wollweber,   N. Darowski,   W. Schröder,  

 

期刊: Crystal Research and Technology  (WILEY Available online 1997)
卷期: Volume 32, issue 1  

页码: 61-68

 

ISSN:0232-1300

 

年代: 1997

 

DOI:10.1002/crat.2170320106

 

出版商: WILEY‐VCH Verlag

 

数据来源: WILEY

 

摘要:

AbstractIm Konzentrationsbereich von 0 bis 25 at% Germanium wurde das Segregationsverhalten von Sili‐zium‐Germanium‐Einkristallen gezüchtet mit Hilfe des HF‐beheizten tiegelfreien Zonenschmelzver‐fahrens untersucht. Vollstündig versetzungsfreie Kristalle mit bis zu 8 at% Germanium wurden gezüchtet. Störungen des einkristalline Wachstum waren im wesentlichen auf konstitutionelle Unterkühlung zurückzuführen. Mittels pyrometrischer Temperaturmessung wurde der Anstieg der axialen Temperaturverteilung ΔT/ΔZin der Nähe der Wachstumsphasengrenze bestimmt und daraus die kritische Ziehgeschwindigkeit abgeleitet. Die Messungen zeigten, daß mit zunehmenden Germaniumgehalt der Temperaturgradient im

 

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