Erratum: ‘‘Elimination of slips on silicon wafer edge in rapid thermal process by using a ring oxide’’ [J. Appl. Phys.67, 7583 (1990)]

 

作者: Byung‐Jin Cho,   Choong‐Ki Kim,  

 

期刊: Journal of Applied Physics  （AIP Available online 1990）
卷期: Volume 68, issue 7  

页码: 3798-3798

 

ISSN:0021-8979

 

年代: 1990

 

DOI:10.1063/1.347206

 

出版商: AIP

 

数据来源: AIP

 

 

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