Erratum: ‘‘Model of etching profiles for ion energy flux dependent etch rates in a collisionless plasma sheath’’ [J. Appl. Phys.77, 3445 (1995)]

 

作者: Barbara Abraham‐Shrauner,   Chungdar Daniel Wang,  

 

期刊: Journal of Applied Physics  （AIP Available online 1995）
卷期: Volume 78, issue 7  

页码: 4813-4813

 

ISSN:0021-8979

 

年代: 1995

 

DOI:10.1063/1.360785

 

出版商: AIP

 

数据来源: AIP

 

 

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