Enhanced deposition rate of sputtered amorphous silicon with a helium and argon gas mixture

 

作者: M.S. Aida,   N. Attaf,   A. Benzegouta,   L. Hadjeris,   M. Selmi,   O. Abdelwahab,  

 

期刊: Philosophical Magazine Letters  （Taylor Available online 1997）
卷期: Volume 76, issue 2  

页码: 117-123

 

ISSN:0950-0839

 

年代: 1997

 

DOI:10.1080/095008397179309

 

出版商: Taylor & Francis Group

 

数据来源: Taylor

 

 

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