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Energie seuil de deplacement dans le bismuth

 

作者: G. Quelard,   J. Dural,   J. Ardonceau,   D. Lesueur,  

 

期刊: Radiation Effects  （Taylor Available online 1978）
卷期: Volume 39, issue 1  

页码: 45-46

 

ISSN:0033-7579

 

年代: 1978

 

DOI:10.1080/00337577808233245

 

出版商: Taylor & Francis Group

 

数据来源: Taylor

 

摘要:

Nous avons mesuré une énergie seuil de déplacement moyenne dans le bismuth á 20 K. Elle est de (13 ± 2) eV. La résistivité de 1% de paire de Frenkel a été trouvée égale á 7500 ± 2000 μΩcm, ce qui est très élevé si on compare cette valeur à ceiles mesurées dans les métaux ou données par la règle de Lucasson et Walker.

 

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