Die Anwendung der Neutronenaktivierungsanalyse als Verfahren zur Bestimmung von Spurenverunreinigungen in hochreinen Materialien, von Zusammensetzungen bei Mehrkomponenten-systemen, von Verteilungen eines Elements in einer anders-artigen Matrix und von Umgruppierungen bestimmter Elemente im Verlauf technologischer Teilschritte ist seit langem bekannt und nimmt einen festen Platz vor allem auch in der Halbleiter-technik ein [1, 2]. Die extremen Empfindlichkeitsanforderungen bei der Bestimmung von Mikroverunreinigungen sprechen trotz des relativ hohen Arbeits-und Zeitaufwands oftmals für die Aktivierungsanalyse, zumal die in der letzten Zeit erzielten Fort-schritte in der Meßtechnik und bei der rechnergestützten Auswertung einen neuen Qualitätsaspekt bewirkten.