Erratum: Focused ion beam microlithography using an etch‐stop process in gallium‐doped silicon [J. Vac. Sci. Technol. B 1, 1056 (1983)]

 

作者: P. H. La Marche,   R. Levi‐Setti,   Y. L. Wang,  

 

期刊: Journal of Vacuum Science&Technology B: Microelectronics Processing and Phenomena  （AIP Available online 1984）
卷期: Volume 2, issue 1  

页码: 89-89

 

ISSN:0734-211X

 

年代: 1984

 

DOI:10.1116/1.582924

 

出版商: American Vacuum Society

 

数据来源: AIP

 

 

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