X‐RAY SURFACE TOPOGRAPHY OF DIFFUSION‐GENERATED DISLOCATIONS IN SILICON
作者:
Ilan A. Blech,
Eugene S. Meieran,
Harry Sello,
期刊:
Applied Physics Letters
(AIP Available online 1965)
卷期:
Volume 7,
issue 6
页码: 176-178
ISSN:0003-6951
年代: 1965
DOI:10.1063/1.1754365
出版商: AIP
数据来源: AIP
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