Annealing of lattice damage in ion implanted silicon

 

作者: V.D. Tkachev,   C. Schrödel,   A.V. Mudryi,  

 

期刊: Radiation Effects  （Taylor Available online 1980）
卷期: Volume 49, issue 1-3  

页码: 133-136

 

ISSN:0033-7579

 

年代: 1980

 

DOI:10.1080/00337578008243081

 

出版商: Taylor & Francis Group

 

数据来源: Taylor

 

 

点击下载:  PDF (272KB)

返 回