Erratum: “Reply to “A Comment on ‘Atomistic models of vacancy-mediated diffusion in silicon’ ’’ ’’ [J. Appl. Phys.79, 7409 (1996)]

 

作者: Scott T. Dunham,  

 

期刊: Journal of Applied Physics  （AIP Available online 1997）
卷期: Volume 81, issue 4  

页码: 2044-2044

 

ISSN:0021-8979

 

年代: 1997

 

DOI:10.1063/1.365557

 

出版商: AIP

 

数据来源: AIP

 

 

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