INFLUENCE OF OXIDATION RATE AND HEAT TREATMENT ON THE DENSITY OF SURFACE STATES IN THE Si&sngbnd;SiO2SYSTEM

 

作者: K. H. Zaininger,   A. G. Revesz,  

 

期刊: Applied Physics Letters  （AIP Available online 1965）
卷期: Volume 7, issue 4  

页码: 108-110

 

ISSN:0003-6951

 

年代: 1965

 

DOI:10.1063/1.1754312

 

出版商: AIP

 

数据来源: AIP

 

 

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