AbstractPour résoudre le phénomène de gonflement qui limite la résolution des résines micro lithographiques classiques, nous nous sommes intéressés à de nouvelles résines avec lesquelles ce phénomène n'apparaǐt pas. Nous avons retenu pour notre étude les résines R qui renferment en mélange un polymère porteur de radicaux tétrathiafulvalénylcarbonyloxyméthyles et le dibromotétrachloroéthane. Afin de voir l'influence de la nature du radical porteur de l'unité tetrathiafulvalène dans le polymère sur les propriétés microlithographiques des résines R, nous nous sommes également intéressés aux polymères renfermant des radicaux tétrathiafulvalénoxyméthyles. Les résines R ont été testées sous irradiation électronique. Leurs sensibilités dépendent en outre de la valeur de la masse molaire du polymère. Des résolutions comprises entre 0,1 et 0,4 μm ont été obtenues. Ce type de résines possèdent un certain nomber de propriétés intéressantes telles que