Summary Abstract: Ion‐enhanced processes in etching of silicon

 

作者: T. M. Mayer,   M. S. Ameen,   E. L. Barish,   T. Mizutani,   D. J. Vitkavage,  

 

期刊: Journal of Vacuum Science&Technology B: Microelectronics Processing and Phenomena  （AIP Available online 1985）
卷期: Volume 3, issue 5  

页码: 1373-1375

 

ISSN:0734-211X

 

年代: 1985

 

DOI:10.1116/1.582995

 

出版商: American Vacuum Society

 

关键词: Si

 

数据来源: AIP

 

 

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