AbstractDie Erhöhung der Strahlenempfindlichkeit von polymeren Resistmaterialien ist für den Einsatz in der Mikroelektronik von großem Interesse. Am Beispiel der thermischen Vorbehandlung von Methylmethacrylat‐Methacrylsäure‐Copolymeren in einer Acetophenon‐Lösung wird gezeigt, daß unter Abspaltung von Wasser und Methanol eine intramolekulare Bildung von cyclischen Anhydridgruppen erfolgt, die bevorzugt durch ionisierende Strahlung gespalten werden. Das thermische Abbauverhalten und die Bestimmung des Anhydridgehaltes werden durch kombinierten Einsatz von TG, MTA, TL und NMR