Mass Analysis of Ion Beams from a Low‐Voltage Spark Ion Source for Ion‐Implantation Doping of Semiconductors

 

作者: R. G. Wilson,   D. M. Jamba,  

 

期刊: Journal of Applied Physics  （AIP Available online 1967）
卷期: Volume 38, issue 4  

页码: 1976-1977

 

ISSN:0021-8979

 

年代: 1967

 

DOI:10.1063/1.1709795

 

出版商: AIP

 

数据来源: AIP

 

 

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