IMPLANTATION PROFILES FOR 40‐keV PHOSPHORUS IONS IN SILICON SINGLE‐CRYSTAL SUBSTRATES
作者:
James F. Gibbons,
A. El‐Hoshy,
K. E. Manchester,
F. L. Vogel,
期刊:
Applied Physics Letters
(AIP Available online 1966)
卷期:
Volume 8,
issue 2
页码: 46-48
ISSN:0003-6951
年代: 1966
DOI:10.1063/1.1754475
出版商: AIP
数据来源: AIP
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