Erratum: Epitaxial alignment of arsenic‐implanted polycrystalline silicon films on ⟨100⟩ silicon obtained by rapid thermal annealing [Appl. Phys. Lett.50, 751 (1987)]

 

作者: J. L. Hoyt,   E. Crabbe´,   J. F. Gibbons,   R. F. W. Pease,  

 

期刊: Applied Physics Letters  （AIP Available online 1987）
卷期: Volume 50, issue 25  

页码: 1846-1846

 

ISSN:0003-6951

 

年代: 1987

 

DOI:10.1063/1.98271

 

出版商: AIP

 

数据来源: AIP

 

 

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