Role of the Competing Etching Process in Determining the Quality of Pyrolytically Grown Silicon and Germanium Films

 

作者: E. G. Bylander,  

 

期刊: Journal of Applied Physics  （AIP Available online 1964）
卷期: Volume 35, issue 4  

页码: 1358-1359

 

ISSN:0021-8979

 

年代: 1964

 

DOI:10.1063/1.1713628

 

出版商: AIP

 

数据来源: AIP

 

 

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