Zur Kenntnis der SiO- und Si 2 O 3 -Phase in Dünnen Schichten
作者:
Elmar Ritter,
期刊:
Optica Acta: International Journal of Optics
(Taylor Available online 1962)
卷期:
Volume 9,
issue 2
页码: 197-202
ISSN:0030-3909
年代: 1962
DOI:10.1080/713826414
出版商: Taylor & Francis Group
数据来源: Taylor
摘要:
Es wird ein Ueberblick über die Siliziumoxydphasen, die beim Verdampfen von Siliziummonoxyd entstehen, gegeben. Bei der Verdampfung von Siliziummonoxyd im Hochvakuum werden röntgenamorphe Schichten erhalten. Die mögliche Struktur dieser Schichten sowie ihre optischen Eigenschaften und ihr Temperverhalten werden diskutiert. Beim Aufdampfen von Siliziummonoxyd in Anwesenheit von Sauerstoff im Restgas erfolgt eine Oxydation. Die so erhaltenen Schichten sind im Sichtbaren und nahen UV absorptionsfrei. Eine Untersuchung des Zusammenhanges zwischen Absorptionskonstanten und Oxydationsgrad der Schichten führt zur Annahme einer Phase Si2O3. Die Eigenschaften dieser Phase, die von SiO2verschiedentlich abweichen, werden beschrieben.
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