Simple evaporator for refractory metal thin film deposition in ultrahigh vacuum

 

作者: J. R. Waldrop,   R. W. Grant,  

 

期刊: Journal of Vacuum Science&Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films  （AIP Available online 1983）
卷期: Volume 1, issue 3  

页码: 1553-1554

 

ISSN:0734-2101

 

年代: 1983

 

DOI:10.1116/1.572184

 

出版商: American Vacuum Society

 

关键词: thin films;fabrication;evaporation;metallization;ultrahigh vacuum;evaporators;metals

 

数据来源: AIP

 

 

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