Erratum: Structure analysis of silicon dioxide films formed by oxidation of silane

 

作者: Naoyuki Nagasima,  

 

期刊: Journal of Applied Physics  （AIP Available online 1973）
卷期: Volume 44, issue 2  

页码: 932-932

 

ISSN:0021-8979

 

年代: 1973

 

DOI:10.1063/1.1662295

 

出版商: AIP

 

数据来源: AIP

 

 

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