Summary Abstract: Recent progress on etching technology with focused ion beam in photomask repair

 

作者: Y. Nakagawa,   S. Sasaki,   M. Sato,   J. Glanville,   M. Yamamoto,  

 

期刊: Journal of Vacuum Science&Technology B: Microelectronics Processing and Phenomena  （AIP Available online 1988）
卷期: Volume 6, issue 3  

页码: 1030-1031

 

ISSN:0734-211X

 

年代: 1988

 

DOI:10.1116/1.584342

 

出版商: American Vacuum Society

 

关键词: Cr

 

数据来源: AIP

 

 

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