Target heating in ion implantation

 

作者: K. B. Albaugh,   A. F. Puttlitz,   P. E. Cade,  

 

期刊: Journal of Vacuum Science&Technology B: Microelectronics Processing and Phenomena  （AIP Available online 1990）
卷期: Volume 8, issue 2  

页码: 134-135

 

ISSN:0734-211X

 

年代: 1990

 

DOI:10.1116/1.584840

 

出版商: American Vacuum Society

 

关键词: ION IMPLANTATION;HEAT TRANSFER;ANALYTICAL SOLUTION;TRANSIENTS;WAFERS;Si

 

数据来源: AIP

 

 

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