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1. |
Die neue Wärmeschutz‐Verordnung verhilft der Vakuumbeschichtung von Glas zum Durchbruch |
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Vakuum in Forschung und Praxis,
Volume 7,
Issue 3,
1995,
Page 171-171
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ISSN:0947-076X
DOI:10.1002/vipr.19950070302
出版商:WILEY‐VCH Verlag
年代:1995
数据来源: WILEY
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2. |
Unternehmen und Personen |
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Vakuum in Forschung und Praxis,
Volume 7,
Issue 3,
1995,
Page 174-178
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PDF (748KB)
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ISSN:0947-076X
DOI:10.1002/vipr.19950070303
出版商:WILEY‐VCH Verlag
年代:1995
数据来源: WILEY
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3. |
Industrielle Dichtheitsprüftechnik ohne Testgas nach dem Massenspektrometerprüfverfahren |
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Vakuum in Forschung und Praxis,
Volume 7,
Issue 3,
1995,
Page 179-182
W. Fuhrmann,
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摘要:
AbstractUmweltschutz, Funktionssicherheit und insbesonders qualitätssichernde Systeme wie ISO 9000 stellen höchste Anforderungen an die Dichtheit von Komponenten und Systemen.Es wird ein Dichtheitsprüfverfahren auf der Basis der Massenspektrometertechnik vorgestellt, das seit etwa 3 Jahren im Produktionsbereich (Prüfung von einigen tausend Einheiten pro Tag) Komponenten vollautomatisch auf Dichtheit prüft im Bereich ⩾ 10−3cm3/s unter Verwendung von „Normalluft”︁ als Testgas.Es werden spezifische Anwendungsfälle der Verpackungsindustrie als auch der Kfz‐Zuliefererindu
ISSN:0947-076X
DOI:10.1002/vipr.19950070304
出版商:WILEY‐VCH Verlag
年代:1995
数据来源: WILEY
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4. |
Das Saugvermögen von Pumpen: Untersuchung verschiedener Meßverfahren im Grobvakuumbereich |
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Vakuum in Forschung und Praxis,
Volume 7,
Issue 3,
1995,
Page 183-193
W. Jitschin,
K.‐H. Bernhardt,
R. Lachenmann,
P. Bickert,
F. J. Eckle,
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摘要:
AbstractThe term pumping speed of a vacuum pump denotes the volume flow rate of gas removed by the pump. In a measurement of the pumping speed it has to be taken into account that the volume of a quantity of gas depends on pressure and temperature. The present article presents a critical investigation of two different procedures for measuring the pumping speed in the rough vacuum regime: In the first procedure, gas flows continuously through the test dome and the pump under investigation. The pumping speed is obtained from the stationary values of throughput and pressure in the test dome. This procedure is well established, technical details are described in various standards. In the second procedure, a large vessel with known volume is evacuated by the pump, and the pumping speed is derived from the pressure decrease with time. In order to avoid disturbances by thermal effects, the vessel may be pumped only during short time intervals with intermediate waiting for thermal equilibrium. The second procedure offers instrumental advantages and its practices are described in a new DIN standard. The physical basis and technical aspects of both procedures including disturbing thermal and other effects are investigated. If applied correctly at inlet pressures in the rough vacuum range, both procedures are expected to yield the same values of the pumping speed. Comparative measurements at a diaphragm pump confirm this expected behaviour within the experimental uncertainty of about 3% (2σ)
ISSN:0947-076X
DOI:10.1002/vipr.19950070305
出版商:WILEY‐VCH Verlag
年代:1995
数据来源: WILEY
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5. |
High Rate Aluminum Sputtering in Compact Disc Production |
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Vakuum in Forschung und Praxis,
Volume 7,
Issue 3,
1995,
Page 194-200
Michael Lübbehusen,
Reiner Seiler,
Eggo Sichmann,
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摘要:
AbstractEine etwa 55 nm dicke Aluminiumschicht verleiht der Compact Disc (CD) ihr typisch „silbriges”︁ Aussehen. Die Schicht dient als Reflektor für den Laserstrahl des Abspielgerätes.Heute können diese Schichten in Single Disc Coatern in nur 1,1 s durch einen DC‐Magnetron Sputterprozeß aufgebracht werden, obwohl das Polycarbonat, aus dem die CD im wesentlichen besteht, nur beschränkt temperaturbelastbar ist.Forderungen der Industrie nach Produktivität, Zuverlässigkeit, geringem Energieverbrauch, hoher Targetausnutzung und stets gleichbleibender Schichtqualität stellen besondere Anforderungen an das Design von
ISSN:0947-076X
DOI:10.1002/vipr.19950070306
出版商:WILEY‐VCH Verlag
年代:1995
数据来源: WILEY
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6. |
Lateral Resolved XPS, a new Key to Failure Analysis |
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Vakuum in Forschung und Praxis,
Volume 7,
Issue 3,
1995,
Page 203-208
Simon Page,
Hans Schmiedel,
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摘要:
AbstractXPS (Kurzform für Röntgenstrahleninduzierte Photoelektronen Spektrometrie) wird von enormer Wichtigkeit für industrielle Fertigung und Qualitätskontrolle. Zunehmende Bedeutung kommt der Methode in immer neuen Bereichen zu, nämlich im organischen und biologischen Bereich, d.h. sogar in der Polymerforschung [1], bei Untersuchungen biologischen Gewebes, im Dentalbereich und bei Humanimplantaten. Diese Entwicklung wurde einerseits ermöglicht durch die stetige Weiterentwicklung [2]der Geräte und auf der anderen Seite durch einige “Meilensteine”. “Imaging XPS” (abbildendes XPS, lateral aufgelöstes XPS) ist seit einiger Zeit bekannt und es gibt vielfache sehr unterschiedliche Ansätze zu dieser Frage. Ein Durchbruch gelang mit der Einführung von magnetischen Linsen [3] und “Magnetically Balanced Charg
ISSN:0947-076X
DOI:10.1002/vipr.19950070307
出版商:WILEY‐VCH Verlag
年代:1995
数据来源: WILEY
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7. |
Qualitätssicherung durch Prozeßüberwachung |
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Vakuum in Forschung und Praxis,
Volume 7,
Issue 3,
1995,
Page 209-211
G. Sele,
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摘要:
AbstractQuality assurance in low‐pressure semiconductor manufacturing processes is greatly supported by on‐line monitoring of the vacuum conditions and process atmospheres. Modern quadrupole mass analyzers in multiplexing mode meet today's stringent requirements of multichamber tools and help to increase production yie
ISSN:0947-076X
DOI:10.1002/vipr.19950070308
出版商:WILEY‐VCH Verlag
年代:1995
数据来源: WILEY
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8. |
Schnüffeleinrichtung für Helium in Luft |
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Vakuum in Forschung und Praxis,
Volume 7,
Issue 3,
1995,
Page 212-214
C. Falland,
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摘要:
AbstractEin üblicher Pumpstand mit einer Turbomolekularpumpe und einem Helium‐Massenspektrometer kann leicht zu einer Schnüffeleinrichtung für Helium in Luft erweitert werden, wenn das Gegenstromprinzip angewendet wird. Es ist dann lediglich ein Lufteinlaß über eine geeignete Kapillare zwischen Turbomolekularpumpe und Vorpumpe zu instal
ISSN:0947-076X
DOI:10.1002/vipr.19950070309
出版商:WILEY‐VCH Verlag
年代:1995
数据来源: WILEY
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9. |
Transporteigenschaften realer Gase |
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Vakuum in Forschung und Praxis,
Volume 7,
Issue 3,
1995,
Page 215-218
W. Jitschin,
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PDF (490KB)
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ISSN:0947-076X
DOI:10.1002/vipr.19950070310
出版商:WILEY‐VCH Verlag
年代:1995
数据来源: WILEY
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10. |
Properties of Si3N4and AIN Films Produced by Reactive Ion Plating and Gas Discharge Sputtering |
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Vakuum in Forschung und Praxis,
Volume 7,
Issue 3,
1995,
Page 221-224
K. H. Monz,
Nguyen Quang Danh,
M. Huter,
E. P. Rille,
H. K. Pulker,
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PDF (619KB)
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摘要:
AbstractThin films of Silicon‐ and Aluminiumnitride were produced by Reactive Low Voltage Ion Plating and low pressure dc‐Magnetron Sputtering. The films show excellent adherence, high hardness and abrasion resistance, and are dense and homogeneous. Both processes, applied at optimum conditions, enable the production of films with nearly identical optical properties. Such optimized deposition conditions in both processes yielded a mean refractive index of n550= 2.05 ± 0.03 for Si3N4and of n550= 2.12 ± 0.01 for AIN films. The region of high optical transmission was found to be between 0.23 and 9.5μm (Si3N4) and between 0.2 and 12.5 μm (AIN). In the visible range both metal nitride films are free of optical absorption (k<10−3). These materials, together with their oxynitride phases, offer interesting applications for the deposition of optical multilayer systems with very high spectral
ISSN:0947-076X
DOI:10.1002/vipr.19950070311
出版商:WILEY‐VCH Verlag
年代:1995
数据来源: WILEY
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