ISSN:0947-076X    

DOI:10.1002/vipr.19950070402

出版商:WILEY‐VCH Verlag    

年代:1995

数据来源: WILEY

ISSN:0947-076X    

DOI:10.1002/vipr.19950070403

出版商:WILEY‐VCH Verlag    

年代:1995

数据来源: WILEY

摘要:

AbstractIn recent years vanadium dioxide films were discussed as thermochromic window coatings. Up to now it is not possible to deposit films, the properties of which are well‐suited for technical application. In the following properties of reactively rf sputtered VO2films on a laboratory scale are reported. Besides optical measurements, analytical techniques as photoelectron spectometry, electron energy loss spectrometry, and secondary ion mass spectrometry are applied to VO2films for the first time. We expect that these investigations will result in a better understanding of the metal‐to‐semiconductor transition, and other film properties as for example electronic defects and diffusion profiles at the interfaces and their effects on the band structure, thus aiming at superior film processing. In the following a survey over first results is pres

ISSN:0947-076X    

DOI:10.1002/vipr.19950070404

出版商:WILEY‐VCH Verlag    

年代:1995

数据来源: WILEY

摘要:

AbstractBei der Gesellschaft für Schwerionenforschung, Darmstadt, wurde in Zusammenarbeit mit der Industrie eine achtpolige Steckverbindung für aktive Vakuummeßköpfe und ihre Betriebsgeräte standardisiert. Diese ist für auf dem Markt bzw. In Entwicklung befindliche Meßköpfe geeignet, die den gesamten technisch interessanten Druckbereich von 1000 mbar bis 10−12mbar überdecken. Die achtadrige Kabelverbindung beinhaltet die Spannungsversorgung der Meßröhre, das Meßsignal sowie Steuer‐ und Rückmeldesignale. Es wird nur ein einziger Steckverbindertyp verwendet, so daß die Lagerhaltung und der Anschluß unterschiedlicher Meßköpfe vereinfacht werden. Der gewählte Steckverbinder (bekannt als Modular‐Steckverbinder) läßt sich lötfrei konfektionieren. Ferner dient ein in den Meßkopf eingebauter Kodierwiderstand zur Identifikation des Kopftyps durch das Betriebsgerät. Damit ist zum Betrieb der unterschiedlichen Meßköpfe lediglich ein einziges Betriebsgerät oder ein

ISSN:0947-076X    

DOI:10.1002/vipr.19950070405

出版商:WILEY‐VCH Verlag    

年代:1995

数据来源: WILEY

摘要:

AbstractEcologically beneficial processes for deoiling metallic or plastic parts to be coated or brazzed gain more and more importance. Especially the low‐pressure evaporation process shows recognizable advantages. The oily parts or devices are cleaned at medium temperature and at process‐pressures of less than 0.1 mbar from the adhered machine oil. In opposite to liquid deoiling procedures also complete assembled devices can be treated in one process step only. Joined plasma processes activate or modify the surfaces for decoration or functional coatings. In the following contribution the process‐technology and machine design is explained and as an example a vacuum‐deoiling plant for automotive heat exchangers is pr

ISSN:0947-076X    

DOI:10.1002/vipr.19950070406

出版商:WILEY‐VCH Verlag    

年代:1995

数据来源: WILEY

摘要:

AbstractIm Gegensatz zu den bislang auf dem Markt erhältllichen trockenen Vorvakuumpumpen (Klauen/Wälzkolbenprinzip) wurde ein trockenes System entwikkelt, das wesentliche Vorteile aufweist. Die angewandte Rotorgeometrie mit zwei durch ein Zahnradpaar gegenläufig drehenden Rotoren zeichnet sich dadurch aus, daß einer der beiden Rotoren die reine Förderung des Mediums und der andere auch das Öffnen und Schließen von Ein‐ und Auslaßquerschnitten übernimmt (Steuerkolben). Die Rotorprofile wurden in ihrer Geometrie und Abstufung zueinander optimal abgestimmt.Nachfolgende Darstellungen zeigen die Pumpphasen vom Ansaugen bis zum Ausstoßen des Mediums für eine der 3 Pumpstufen. Das theoretische Saugvermögen errechnet sich aus (V1+ V2) 2 n, wobei n die Nenndrehzahl

ISSN:0947-076X    

DOI:10.1002/vipr.19950070407

出版商:WILEY‐VCH Verlag    

年代:1995

数据来源: WILEY

摘要:

AbstractDie organische Molekularstrahl‐Epitaxie (OMBE) ist ein Verfahren zum Aufwachsen organischer und halbleitender Stoffe im UHV. Der Artikel beschreibt eine modulare Anlage aus 3 UHV‐ Kammern, die speziell für einzelne Verfahrensschritte ausgelegt sind. Die Anlage ist flexibel und erlaubt vielfältige optische Untersuchungen der Proben ohne diese der Atmosphäre auszusetzen. Eine wichtige Anwendung ist die Herstellung neuer LED‐Bauteile basierend auf Fu

ISSN:0947-076X    

DOI:10.1002/vipr.19950070408

出版商:WILEY‐VCH Verlag    

年代:1995

数据来源: WILEY

摘要:

AbstractUp to now, a pulsed plasma with pulse rates between 50 and 150 kHz has been used in PVD techniques only rarely. Recently, our activities and the efforts of various other research teams were concentrated on this field. The MF‐pulsed plasma offers facility to overcome limitations that restrict the use of DC and RF sputtering. A high motivation for further development results from the objective to coat large areas, to attain the highest possible deposition rates and to carry out a considerate plasma‐assisted surface treatment or plasma coating matched to the compatibility of the substrates. Via pulsed sputtering and plasma‐activated deposition, the application of a pulsed plasma goes from tasks of substrate pretreatment and etching to the plasma‐assisted surface treatment of layers or workpieces. Unipolar pulsed electrodes — in particular floating‐powered multi‐electrode arrangements — pave the way to stable long‐term and arc‐free reactive deposition of defect‐free and electrically insulating layers. The pulsed plasma also opens up fresh ground in the use of bias effects for the deposition of poorly conducting layers and for the coating of thin insulating substrates o

ISSN:0947-076X    

DOI:10.1002/vipr.19950070409

出版商:WILEY‐VCH Verlag    

年代:1995

数据来源: WILEY

ISSN:0947-076X    

DOI:10.1002/vipr.19950070410

出版商:WILEY‐VCH Verlag    

年代:1995

数据来源: WILEY

ISSN:0947-076X    

DOI:10.1002/vipr.19950070411

出版商:WILEY‐VCH Verlag    

年代:1995

数据来源: WILEY