ISSN:0947-076X    

DOI:10.1002/vipr.19960080302

出版商:WILEY‐VCH Verlag    

年代:1996

数据来源: WILEY

ISSN:0947-076X    

DOI:10.1002/vipr.19960080303

出版商:WILEY‐VCH Verlag    

年代:1996

数据来源: WILEY

摘要:

AbstractEnergiereiche Ionen sind Werkzeuge, die sich in Materialforschung, Biologie, Medizin, Mikrosystemtechnik, Optik und Analytik vielfältig anwenden lassen. Wegen seiner Fokussierbarkeit, Energieschärfe und extremen Variabilität ist der Ionenstrahl häufig Strahlenmethoden überlegen. Im folgenden Beitrag werden die Ergebnisse einer vom BMBF geförderten Untersuchung über „Stand und Zukunftsperspektiven der Ionentechnologie”︁ vorgestellt.Insbesondere wird auf den Stand der Forschung und Anwendung in Deutschland im Vergleich zum Ausland eingegangen, und auf Grund von Gesprächen mit in‐ und ausländischen Experten das generelle Verwendungspotential bewertet. Darüber hinaus werden Anwendungsdefizite diskutiert und auf Kostenfragen eingegangen. Schließlich werden Maßnahmen empfohlen, um die Entwicklung in Deutschland dem internationalen Spitzenniveau anzunähern, und geeignete Verbundforschungsthemen für eine gemeinsame Bearbeitung durch Industrie und Forschun

ISSN:0947-076X    

DOI:10.1002/vipr.19960080304

出版商:WILEY‐VCH Verlag    

年代:1996

数据来源: WILEY

摘要:

AbstractDie Oberflächen‐ und Dünnschichttechnologie zeigte in den 10 Jahren ein kontinuierliches Wachstum und fand Eingang in eine Reihe neuer Anwendungsbereiche. Einige Produkte wie z.B. die CD‐Produktion oder wärmedämmendes Architekturglas wären ohne die Dünnschichttechnik nur äußerst schwer zu realisieren. Die Ionenstrahlverfahren stellen mit die jüngsten Entwicklungen auf diesem Gebiet dar und bieten dem Anwender neue Veredelungsmöglichkeiten seiner Werkstoffe. Die Beschichtung bzw. Modifizierung der Oberfläche kann auf nahezu alle Werkstoffklassen, wie z.B. Stahl, Polymere, Keramiken und Halbleiter durchgeführt werden.Die Ionenimplantation führt u.a. zur einer Härtung der Substratwerkstoffe im oberflächennahen Bereich. Da keine eigentliche Schicht aufgebracht wird, sind Schichtablösungen ausgeschlossen. Dadurch ist dieses Verfahren für den medizinischen, Pharmazeutischen oder lebensmitteltechnischen Bereich von hoher Bedeutung. Der modifizierte Erkstoff bleibt in seinen Vollmaterialeigenschaften unverändert und verhält sich zudem nicht toxisch.Durch den Ionenstrahlbeschuß konnte bei Präzisionswerkzeugen bis zu 10fache Standzeitveränderungen erzielt werden. Auch die Ionenstrahlbehandlung von Keramikbauteilen führt zu einem verbesserten Verchleißverhalten.In Kombination mit einer Beschichtungsquelle können unterschiedlichste Schichtsysteme haftfest bei Temperaturen unterhalb von 250°C abgeschieden werden. Die Ionenstrahlgestützte Beschichtung kann ebenfalls für nahezu alle Werkstoffklassen angewendet werden.Die Ionenstrahlverfahren werden auch in Ergänzung zu anderen Beschichtungstechnologien eingesetzt. Eine nachträgliche Stickstoffimplantation in hartverchromte Bauteile bewirkt eine deutliche Verbesserung des Verschleißverhaltens.Die Ionenstrahlverfahren — konventionelle Ionenimplantation, Ionenstrahlgestützte Beschichtung, Plasma‐Immersions‐Ionenimplantation — sind sehr flexible und leistungsfähige Techniken um Problemstellungen im Bereich der Hochlei

ISSN:0947-076X    

DOI:10.1002/vipr.19960080305

出版商:WILEY‐VCH Verlag    

年代:1996

数据来源: WILEY

摘要:

AbstractDünne Polymerschichten werden durch plasmagestützte CVD direkt aus der Dampfphase eines organischen Ausgangsmaterials abgeschieden (Plasmapolymerisation). Die zugeführte Gasmenge begrenzt die Schichtwachstumsrate. Durch plasmachemische Stoffwandlung im Gasraum und an der Schichtoberfläche kann auf die Schichteigenschaften Einfluß genommen werden. Die Zeitkonstante dieser Stoffwandlung ergibt in Verbindung mit den Anwendungsforderungen an die Schichten ein vakuumtechnisches Konzept für die Anlagenentwicklung, das auch großtechnische Anwendungen möglich erschein

ISSN:0947-076X    

DOI:10.1002/vipr.19960080306

出版商:WILEY‐VCH Verlag    

年代:1996

数据来源: WILEY

摘要:

AbstractDas wissenschaftliche und technische Interesse an verschleiß‐ und reibungsmindernden amorphen Kohlenstoffschichten zur Oberflächenveredlung von Werkzeugen und Verschleißteilen ist in den letzten Jahren ständig gewachsen. Dieses Material wird in der Fachliteratur als „DLC (diamond‐like carbon)”︁, „a‐C:H”︁ oder „i‐Kohlenstoff”︁ bezeichnet. In der vorliegenden Arbeit wurden DLC‐Schichten in einer unselbständigen Kohlenwasserstoff‐Gleichstromentladung, die mittels einer Glühkatoden‐Anodengitter‐Anordnung bei Drücken von 0,005 bis 0,05 Pa erzeugt werden kann, auf negativ vorgespannten, gekühlten Umformwerkzeugen (Hartmetall‐Rohrzugdorne, ‐Drahtziehsteine, ‐Tiefziehstempel und ‐Abstreckringe) und weiteren Maschinen‐ und Geräteteilen für Praxisuntersuchungen sowie auf ebenen, polierten Hartmetall‐ und Stahlproben für Schichteigenschaftsbestimmungen abgeschieden. Neben der Beschreibung des Schichtsyntheseverfahrens wird eine Übersicht über die damit erzielbaren Schichteigenschaften wie Härte, Reibungskoeffizienten, kritische Lasten u. a. gegeben. Die Schichteigenschaften sind überaus sensibel von den äußeren Prozeßparametern abhängig und somit über diese einstellbar. Auf dieser Basis wurde in der Gesellschaft für Fertigungstechnik und Entwicklung e.V. Schmalkalden (GFE e.V.) für den gesamten DLC‐Prozeß (Pumpregime — Ionenätzen — Gaswechsel — Beschichten — Chargenwechsel) eine automatische Steuerung entwikkelt und in einer technischen Versuchsanlage mit einem Plasmareaktorvolumen von 65 Litern und einer homogen beschichtbaren, ebenen Fläche von 1600 cm2eingesetzt und erfolgreich erprobt. Die für eine nochmalige Skalierung der Verfahrenstechnik notwendige Plasmadiagnostik erfolgt durch Langmuir‐Sondenmessungen. Erste dabei erzielte Ergebnisse werden vorgestellt. Die Kenntnis der Plasmaeigenschaften ist des weiteren Voraussetzung für eine

ISSN:0947-076X    

DOI:10.1002/vipr.19960080307

出版商:WILEY‐VCH Verlag    

年代:1996

数据来源: WILEY

摘要:

AbstractZusammenfassung Asymmetric Bipolar Pulsed DC wurde als Energieform entwickelt, um isolierende Schichten in einem reaktiven PVD‐Prozess vom metallischen Target kostengünstig und mit hohen Raten langzeitstabil abzuscheiden. Die „Forward Power”︁ (negativer Bereich) arbeitet als Stromquelle, da Ionen bewegt werden müssen. Die „Revers Power”︁ (positiver Bereich) arbeitet als Spannungsquelle, da Elektronen zur Kompensation einer positiven Aufladung bewegt werden müssen. Mit dieser Technik wird die Targetvergiftung vermieden. Außer allen üblichen Parameter eines DCG (DC Generator) gibt es beim RPG (Reactive Plasma Generator) 3 weitere programmierbare Parameter:a)Frequenz (50–250KHz)b)Duty Cycle (0–40%)c)Amplitude des positiven Anteils genannte Reverse Bias Voltage (50–120V) Damit kann der Anwender den RPG (Reactive Plasma Generator) schnell für einen bestimmten Prozess optimieren. Es werden auch andere Quellentechniken mit der vorliegenden verglichen und erörtert. Außerdem wird der Einsatz des RPG (Reactive Plasma Generators) in Verbindung mit PVD‐

ISSN:0947-076X    

DOI:10.1002/vipr.19960080308

出版商:WILEY‐VCH Verlag    

年代:1996

数据来源: WILEY

摘要:

AbstractZusammenfassung Ionisationsmanometer mit Glükathode und Kaltkathode werden in großer Zahl in Industrie und Forschung zur Druckmessung im Hoch‐ und Ultrahoch‐Vakuum eingestzt. Wichtige Einsatzgebiete sind z. B. Sputter‐ und Bedampfungsanlagen. Stillschweigend wird dabei seit langem akzeptiert, daß in diesen tiefen Druckbereichen Meßfehler zwischen 10% und 100% mit herkömmlichen lonisationsmanometern keine Seltenheit sind. Ursache ist die mangelnde Langzeitstabilität konventioneller Ionisationsmanometer.Zusammenfassung Wenn es bei der Druckmessung auf Genauigkeit und Reproduzierbarkeit ankommt, spielt die zeitliche Stabilität der Meßröhre eine entscheidende Rolle. Nur eine stabile Meßröhre gewährleistet eine sichere Steuerung von Prozeßabläfen. Auch soll ein Austausch einzelner Meßröhren zu keiner Änderung bei der Druckmessung führen, da sonst langwierige und kostenintensive Neukalibrierungen nötig werden.In diesem Artikel wird über Messungen an Bayard‐Alpert‐ und Penning‐ Röhren berichtet, die das Stabilitätsverhalten dieser Röhren über Zeiträume von mehreren Monaten untersuchen. Ursachen für die beobachteten zeitlichen Änderungen werden diskutiert. Eine speziell für hohe Stabilität entwickelte Bayard‐Alpert‐Meßröhre (STBILION) vermeidet bzw. reduziert diese Ursachen. Als Folge ergibt sich eine wesentlich bessere Langzeitsta

ISSN:0947-076X    

DOI:10.1002/vipr.19960080309

出版商:WILEY‐VCH Verlag    

年代:1996

数据来源: WILEY

ISSN:0947-076X    

DOI:10.1002/vipr.19960080310

出版商:WILEY‐VCH Verlag    

年代:1996

数据来源: WILEY

ISSN:0947-076X    

DOI:10.1002/vipr.19960080311

出版商:WILEY‐VCH Verlag    

年代:1996

数据来源: WILEY