Applied Physics Letters


ISSN: 0003-6951        年代:1972
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年代:1972
 
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11. Effect of Oxygen on the Electromigration Behavior of Al Thin Films
  Applied Physics Letters,   Volume  20,   Issue  11,   1972,   Page  434-436

L. Berenbaum,  

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12. Sealed Room‐Temperature CO&sngbnd;CO2Laser Operating at 5 or 10 &mgr;
  Applied Physics Letters,   Volume  20,   Issue  11,   1972,   Page  436-438

H. J. Seguin,   J. Tulip,   B. White,  

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13. Thermally Induced Negative Resistance in Si‐Doped YIG
  Applied Physics Letters,   Volume  20,   Issue  11,   1972,   Page  439-441

Theodore Kaplan,   D. C. Bullock,   David Adler,   D. J. Epstein,  

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14. Domains in SmCo5at Low Temperatures
  Applied Physics Letters,   Volume  20,   Issue  11,   1972,   Page  441-443

F. F. Westendorp,  

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15. Superconducting Properties of Multifilamentary Nb3Sn Made by a New Process
  Applied Physics Letters,   Volume  20,   Issue  11,   1972,   Page  443-445

M. Suenaga,   W. B. Sampson,  

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16. Space‐Charge Dependence of the Barrier Height on Insulator Thickness in Al‐(Al‐Oxide)‐Al Sandwiches
  Applied Physics Letters,   Volume  20,   Issue  11,   1972,   Page  445-446

K. H. Gundlach,   J. Kadlec,  

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17. Magnetic Properties of Cobalt‐Samarium with a 24‐MG Oe Energy Product
  Applied Physics Letters,   Volume  20,   Issue  11,   1972,   Page  447-449

S. Foner,   E. J. McNiff,   D. L. Martin,   M. G. Benz,  

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18. Neutralization of Na+Ions in ``HCl‐Grown'' SiO2
  Applied Physics Letters,   Volume  20,   Issue  11,   1972,   Page  449-451

R. J. Kriegler,  

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19. Thermomagnetic Recording in Thin Garnet Layers
  Applied Physics Letters,   Volume  20,   Issue  11,   1972,   Page  451-453

J.‐P. Krumme,   J. Verweel,   J. Haberkamp,   W. Tolksdorf,   G. Bartels,   G. P. Espinosa,  

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20. Variable Ultrafast Photographic Shutter
  Applied Physics Letters,   Volume  20,   Issue  11,   1972,   Page  453-455

G. Mourou,   B. Drouin,   M. M. Denariez‐Roberge,  

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