Applied Physics Letters


ISSN: 0003-6951        年代:1996
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11. AlGaN/InGaN/GaN blue light emitting diode degradation under pulsed current stress
  Applied Physics Letters,   Volume  69,   Issue  7,   1996,   Page  898-900

Marek Osin´ski,   Joachim Zeller,   Pei‐Chih Chiu,   B. Scott Phillips,   Daniel L. Barton,  

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12. Electro‐optical characterization of poled‐polymer films in transmission
  Applied Physics Letters,   Volume  69,   Issue  7,   1996,   Page  901-903

P. M. Lundquist,   M. Jurich,   J.‐F. Wang,   H. Zhou,   T. J. Marks,   G. K. Wong,  

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13. Ionic and neutral growth of dust in plasmas
  Applied Physics Letters,   Volume  69,   Issue  7,   1996,   Page  904-906

P. Haaland,   A. Garscadden,   B. Ganguly,  

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14. The role of atomic size asperities in the mechanical deformation of nanocontacts
  Applied Physics Letters,   Volume  69,   Issue  7,   1996,   Page  907-909

A. B. Mann,   J. B. Pethica,  

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15. Depression of melting point of multidomained bismuth in aluminum based metallic glass nanocomposites
  Applied Physics Letters,   Volume  69,   Issue  7,   1996,   Page  910-912

R. Goswami,   K. Chattopadhyay,  

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16. Microscopic structure of gold particles in a metal polymer composite film
  Applied Physics Letters,   Volume  69,   Issue  7,   1996,   Page  913-915

M. Jose´‐Yacama´n,   R. Pe´rez,   P. Santiago,   M. Benaissa,   K. Gonsalves,   G. Carlson,  

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17. Localized epitaxial growth of hexagonal and cubic SiC films on Si by vacuum annealing
  Applied Physics Letters,   Volume  69,   Issue  7,   1996,   Page  916-918

Jian‐Shing Luo,   Wen‐Tai Lin,  

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18. Thermally activated interface shift in the tungsten/silicon multilayers
  Applied Physics Letters,   Volume  69,   Issue  7,   1996,   Page  919-921

M. Jergel,   Z. Bochni´cˇek,   E. Majkova´,   R. Sendera´k,   Sˇ. Luby,  

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19. Activation volume for arsenic diffusion in germanium
  Applied Physics Letters,   Volume  69,   Issue  7,   1996,   Page  922-924

Salman Mitha,   Michael J. Aziz,   David Schiferl,   David B. Poker,  

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20. Kinetics of solid phase epitaxy in buried amorphous Si layers formed by MeV ion implantation
  Applied Physics Letters,   Volume  69,   Issue  7,   1996,   Page  925-927

J. C. McCallum,  

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