Applied Physics Letters


ISSN: 0003-6951        年代:1986
当前卷期:Volume 49  issue 19     [ 查看所有卷期 ]

年代:1986
 
     Volume 48  issue 1   
     Volume 48  issue 2   
     Volume 48  issue 3   
     Volume 48  issue 4   
     Volume 48  issue 5   
     Volume 48  issue 6   
     Volume 48  issue 7   
     Volume 48  issue 8   
     Volume 48  issue 9   
     Volume 48  issue 10   
     Volume 48  issue 11   
     Volume 48  issue 12   
     Volume 48  issue 13   
     Volume 48  issue 14   
     Volume 48  issue 15   
     Volume 48  issue 16   
     Volume 48  issue 17   
     Volume 48  issue 18   
     Volume 48  issue 19   
     Volume 48  issue 20   
     Volume 48  issue 21   
     Volume 48  issue 22   
     Volume 48  issue 23   
     Volume 48  issue 24   
     Volume 48  issue 25   
     Volume 48  issue 26   
     Volume 49  issue 1   
     Volume 49  issue 2   
     Volume 49  issue 3   
     Volume 49  issue 4   
     Volume 49  issue 5   
     Volume 49  issue 6   
     Volume 49  issue 7   
     Volume 49  issue 8   
     Volume 49  issue 9   
     Volume 49  issue 10   
     Volume 49  issue 11   
     Volume 49  issue 12   
     Volume 49  issue 13   
     Volume 49  issue 14   
     Volume 49  issue 15   
     Volume 49  issue 16   
     Volume 49  issue 17   
     Volume 49  issue 18   
     Volume 49  issue 19
     Volume 49  issue 20   
     Volume 49  issue 21   
     Volume 49  issue 22   
     Volume 49  issue 23   
     Volume 49  issue 24   
     Volume 49  issue 25   
     Volume 49  issue 26   
11. Study of nonstoichiometry in undoped semi‐insulating GaAs using precise lattice parameter measurements
  Applied Physics Letters,   Volume  49,   Issue  19,   1986,   Page  1251-1253

Masato Nakajima,   Takashi Sato,   Tomoki Inada,   Tsuguo Fukuda,   Koichi Ishida,  

Preview   |   PDF (238KB)

12. New omnipresent electron paramagnetic resonance signal in as‐grown semi‐insulating liquid encapsulation Czochralski GaAs
  Applied Physics Letters,   Volume  49,   Issue  19,   1986,   Page  1254-1256

U. Kaufmann,   M. Baeumler,   J. Windscheif,   W. Wilkening,  

Preview   |   PDF (236KB)

13. Interface charge polarity of a polar on nonpolar semiconductor GaAs/Si with Ga and As prelayers
  Applied Physics Letters,   Volume  49,   Issue  19,   1986,   Page  1257-1259

T. Won,   G. Munns,   R. Houdre´,   H. Morkoc¸,  

Preview   |   PDF (197KB)

14. Observation of Bloch conduction perpendicular to interfaces in a superlattice bipolar transistor
  Applied Physics Letters,   Volume  49,   Issue  19,   1986,   Page  1260-1262

J. F. Palmier,   C. Minot,   J. L. Lievin,   F. Alexandre,   J. C. Harmand,   J. Dangla,   C. Dubon‐Chevallier,   D. Ankri,  

Preview   |   PDF (246KB)

15. Investigation of orientation effect on contact resistance in selectively doped AlGaAs/GaAs heterostructures
  Applied Physics Letters,   Volume  49,   Issue  19,   1986,   Page  1263-1265

M. Kamada,   T. Suzuki,   F. Nakamura,   Y. Mori,   M. Arai,  

Preview   |   PDF (184KB)

16. ‘‘New donors’’ in silicon: A quantum well controlled conductivity
  Applied Physics Letters,   Volume  49,   Issue  19,   1986,   Page  1266-1268

A. Henry,   J. L. Pautrat,   P. Vendange,   K. Saminadayar,  

Preview   |   PDF (247KB)

17. Elimination of end‐of‐range and mask edge lateral damage in Ge+preamorphized, B+implanted Si
  Applied Physics Letters,   Volume  49,   Issue  19,   1986,   Page  1269-1271

A. C. Ajmera,   G. A. Rozgonyi,  

Preview   |   PDF (307KB)

18. Amorphous SiN:H dielectrics with low density of defects
  Applied Physics Letters,   Volume  49,   Issue  19,   1986,   Page  1272-1274

S. Hasegawa,   M. Matuura,   Y. Kurata,  

Preview   |   PDF (211KB)

19. Optically detected carrier confinement to one and zero dimension in GaAs quantum well wires and boxes
  Applied Physics Letters,   Volume  49,   Issue  19,   1986,   Page  1275-1277

J. Cibert,   P. M. Petroff,   G. J. Dolan,   S. J. Pearton,   A. C. Gossard,   J. H. English,  

Preview   |   PDF (317KB)

20. Emitter grading in AlGaAs/GaAs heterojunction bipolar transistor grown by metalorganic chemical vapor deposition
  Applied Physics Letters,   Volume  49,   Issue  19,   1986,   Page  1278-1280

K. Taira,   C. Takano,   H. Kawai,   M. Arai,  

Preview   |   PDF (176KB)

首页 上一页 下一页 尾页 第2页 共32条