Applied Physics Letters


ISSN: 0003-6951        年代:1986
当前卷期:Volume 49  issue 4     [ 查看所有卷期 ]

年代:1986
 
     Volume 48  issue 1   
     Volume 48  issue 2   
     Volume 48  issue 3   
     Volume 48  issue 4   
     Volume 48  issue 5   
     Volume 48  issue 6   
     Volume 48  issue 7   
     Volume 48  issue 8   
     Volume 48  issue 9   
     Volume 48  issue 10   
     Volume 48  issue 11   
     Volume 48  issue 12   
     Volume 48  issue 13   
     Volume 48  issue 14   
     Volume 48  issue 15   
     Volume 48  issue 16   
     Volume 48  issue 17   
     Volume 48  issue 18   
     Volume 48  issue 19   
     Volume 48  issue 20   
     Volume 48  issue 21   
     Volume 48  issue 22   
     Volume 48  issue 23   
     Volume 48  issue 24   
     Volume 48  issue 25   
     Volume 48  issue 26   
     Volume 49  issue 1   
     Volume 49  issue 2   
     Volume 49  issue 3   
     Volume 49  issue 4
     Volume 49  issue 5   
     Volume 49  issue 6   
     Volume 49  issue 7   
     Volume 49  issue 8   
     Volume 49  issue 9   
     Volume 49  issue 10   
     Volume 49  issue 11   
     Volume 49  issue 12   
     Volume 49  issue 13   
     Volume 49  issue 14   
     Volume 49  issue 15   
     Volume 49  issue 16   
     Volume 49  issue 17   
     Volume 49  issue 18   
     Volume 49  issue 19   
     Volume 49  issue 20   
     Volume 49  issue 21   
     Volume 49  issue 22   
     Volume 49  issue 23   
     Volume 49  issue 24   
     Volume 49  issue 25   
     Volume 49  issue 26   
11. Impact ionization coefficients in In0.2Ga0.8As/GaAs strained‐layer superlattices
  Applied Physics Letters,   Volume  49,   Issue  4,   1986,   Page  212-214

G. E. Bulman,   T. E. Zipperian,   L. R. Dawson,  

Preview   |   PDF (299KB)

12. Planar monolithic integrated photoreceiver for 1.3–1.55 &mgr;m wavelength applications using GaInAs‐GaAs heteroepitaxies
  Applied Physics Letters,   Volume  49,   Issue  4,   1986,   Page  215-217

M. Razeghi,   J. Ramdani,   H. Verriele,   D. Decoster,   M. Constant,   J. Vanbremeersch,  

Preview   |   PDF (196KB)

13. Enhancement of open circuit voltage in high efficiency amorphous silicon alloy solar cells
  Applied Physics Letters,   Volume  49,   Issue  4,   1986,   Page  218-219

S. Guha,   J. Yang,   P. Nath,   M. Hack,  

Preview   |   PDF (162KB)

14. Extremely high quality Ga0.47In0.53As/InP quantum wells grown by chemical beam epitaxy
  Applied Physics Letters,   Volume  49,   Issue  4,   1986,   Page  220-222

W. T. Tsang,   E. F. Schubert,  

Preview   |   PDF (296KB)

15. Kinetics of implantation enhanced interdiffusion of Ga and Al at GaAs‐GaxAl1−xAs interfaces
  Applied Physics Letters,   Volume  49,   Issue  4,   1986,   Page  223-225

J. Cibert,   P. M. Petroff,   D. J. Werder,   S. J. Pearton,   A. C. Gossard,   J. H. English,  

Preview   |   PDF (305KB)

16. High‐speed circuit measurements using photoemission sampling
  Applied Physics Letters,   Volume  49,   Issue  4,   1986,   Page  226-228

J. Bokor,   A. M. Johnson,   R. H. Storz,   W. M. Simpson,  

Preview   |   PDF (253KB)

17. Erratum: Calculation of critical layer thickness versus lattice mismatch for GexSi1−x/Si strained‐layer heterostructures [Appl. Phys. Lett.47, 322 (1985)]
  Applied Physics Letters,   Volume  49,   Issue  4,   1986,   Page  229-229

R. People,   J. C. Bean,  

Preview   |   PDF (46KB)

首页 上一页 下一页 尾页 第2页 共17条