Applied Physics Letters


ISSN: 0003-6951        年代:1986
当前卷期:Volume 49  issue 8     [ 查看所有卷期 ]

年代:1986
 
     Volume 48  issue 1   
     Volume 48  issue 2   
     Volume 48  issue 3   
     Volume 48  issue 4   
     Volume 48  issue 5   
     Volume 48  issue 6   
     Volume 48  issue 7   
     Volume 48  issue 8   
     Volume 48  issue 9   
     Volume 48  issue 10   
     Volume 48  issue 11   
     Volume 48  issue 12   
     Volume 48  issue 13   
     Volume 48  issue 14   
     Volume 48  issue 15   
     Volume 48  issue 16   
     Volume 48  issue 17   
     Volume 48  issue 18   
     Volume 48  issue 19   
     Volume 48  issue 20   
     Volume 48  issue 21   
     Volume 48  issue 22   
     Volume 48  issue 23   
     Volume 48  issue 24   
     Volume 48  issue 25   
     Volume 48  issue 26   
     Volume 49  issue 1   
     Volume 49  issue 2   
     Volume 49  issue 3   
     Volume 49  issue 4   
     Volume 49  issue 5   
     Volume 49  issue 6   
     Volume 49  issue 7   
     Volume 49  issue 8
     Volume 49  issue 9   
     Volume 49  issue 10   
     Volume 49  issue 11   
     Volume 49  issue 12   
     Volume 49  issue 13   
     Volume 49  issue 14   
     Volume 49  issue 15   
     Volume 49  issue 16   
     Volume 49  issue 17   
     Volume 49  issue 18   
     Volume 49  issue 19   
     Volume 49  issue 20   
     Volume 49  issue 21   
     Volume 49  issue 22   
     Volume 49  issue 23   
     Volume 49  issue 24   
     Volume 49  issue 25   
     Volume 49  issue 26   
11. Development and origin of conical structures on XeCl laser ablated polyimide
  Applied Physics Letters,   Volume  49,   Issue  8,   1986,   Page  453-455

P. E. Dyer,   S. D. Jenkins,   J. Sidhu,  

Preview   |   PDF (315KB)

12. Effect of conduction‐band nonparabolicity on quantized energy levels of a quantum well
  Applied Physics Letters,   Volume  49,   Issue  8,   1986,   Page  456-457

T. Hiroshima,   R. Lang,  

Preview   |   PDF (158KB)

13. Intensity‐dependent cyclotron resonance in a GaAs/GaAlAs two‐dimensional electron gas
  Applied Physics Letters,   Volume  49,   Issue  8,   1986,   Page  458-460

G. A. Rodri´guez,   R. M. Hart,   A. J. Sievers,   F. Keilmann,   Z. Schlesinger,   S. L. Wright,   W. I. Wang,  

Preview   |   PDF (224KB)

14. p‐channel, strained quantum well, field‐effect transistor
  Applied Physics Letters,   Volume  49,   Issue  8,   1986,   Page  461-463

T. J. Drummond,   T. E. Zipperian,   I. J. Fritz,   J. E. Schirber,   T. A. Plut,  

Preview   |   PDF (200KB)

15. Native oxide encapsulation for annealing boron‐implanted Hg1−xCdxTe
  Applied Physics Letters,   Volume  49,   Issue  8,   1986,   Page  464-466

T.‐M. Kao,   T. W. Sigmon,  

Preview   |   PDF (230KB)

16. Low pressure organometallic vapor phase epitaxial growth of device quality GaAs directly on (100) Si
  Applied Physics Letters,   Volume  49,   Issue  8,   1986,   Page  467-469

S. K. Shastry,   S. Zemon,  

Preview   |   PDF (302KB)

17. Low defect densities in molecular beam epitaxial GaAs achieved by isoelectronic In doping
  Applied Physics Letters,   Volume  49,   Issue  8,   1986,   Page  470-472

Pallab K. Bhattacharya,   Sunanda Dhar,   Paul Berger,   Feng‐Yuh Juang,  

Preview   |   PDF (208KB)

18. Magneto‐optic recording materials with direct overwrite capability
  Applied Physics Letters,   Volume  49,   Issue  8,   1986,   Page  473-474

Han‐Ping D. Shieh,   Mark H. Kryder,  

Preview   |   PDF (170KB)

19. Laser‐driven chemical reaction for etching LiNbO3
  Applied Physics Letters,   Volume  49,   Issue  8,   1986,   Page  475-477

C. I. H. Ashby,   P. J. Brannon,  

Preview   |   PDF (256KB)

20. Response to ‘‘Comment on ‘Physical processes in degradation of amorphous Si:H’ ’’ [Appl. Phys. Lett.49, 478 (1986)]
  Applied Physics Letters,   Volume  49,   Issue  8,   1986,   Page  478-479

David Redfield,  

Preview   |   PDF (113KB)

首页 上一页 下一页 尾页 第2页 共20条