Applied Physics Letters


ISSN: 0003-6951        年代:1997
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年代:1997
 
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11. Distributed feedback quantum cascade lasers
  Applied Physics Letters,   Volume  70,   Issue  20,   1997,   Page  2670-2672

Je´rome Faist,   Claire Gmachl,   Federico Capasso,   Carlo Sirtori,   Deborah L. Sivco,   James N. Baillargeon,   Alfred Y. Cho,  

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12. Polarimetry of thin metal transmission gratings in the resonance region and its impact on the response of metal-semiconductor-metal photodetectors
  Applied Physics Letters,   Volume  70,   Issue  20,   1997,   Page  2673-2675

Erli Chen,   Stephen Y. Chou,  

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13. Laser-induced generation of pure tensile stresses
  Applied Physics Letters,   Volume  70,   Issue  20,   1997,   Page  2676-2678

M. H. Niemz,   C. P. Lin,   C. Pitsillides,   J. Cui,   A. G. Doukas,   T. F. Deutsch,  

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14. Carbon nanotubes are coherent electron sources
  Applied Physics Letters,   Volume  70,   Issue  20,   1997,   Page  2679-2680

Heinz Schmid,   Hans-Werner Fink,  

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15. Stable amorphous-silicon thin-film transistors
  Applied Physics Letters,   Volume  70,   Issue  20,   1997,   Page  2681-2683

H. Meiling,   R. E. I. Schropp,  

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16. Raman characterization of aligned carbon nanotubes produced by thermal decomposition of hydrocarbon vapor
  Applied Physics Letters,   Volume  70,   Issue  20,   1997,   Page  2684-2686

Wenzhi Li,   Hao Zhang,   Chaoying Wang,   Yun Zhang,   Liwen Xu,   Ke Zhu,   Sishen Xie,  

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17. Direct thermal conductance measurements on suspended monocrystalline nanostructures
  Applied Physics Letters,   Volume  70,   Issue  20,   1997,   Page  2687-2689

T. S. Tighe,   J. M. Worlock,   M. L. Roukes,  

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18. Direct-injection high-Tcdc-SQUID with an upperYBa2Cu3O7−xground plane
  Applied Physics Letters,   Volume  70,   Issue  20,   1997,   Page  2690-2692

H. Terai,   M. Hidaka,   T. Satoh,   S. Tahara,  

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19. Investigation of the compensation mechanism in semi-insulating GaAs from alpha-spectra studies at low temperature
  Applied Physics Letters,   Volume  70,   Issue  20,   1997,   Page  2693-2695

J. W. Chen,   D. G. Ebling,   R. Geppert,   R. Irsigler,   Th. Schmid,   M. Rogalla,   J. Ludwig,   K. Runge,  

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20. Depth analysis of phase formation in Si after high-dose Fe ion implantation by depth-selective conversion-electron Mo¨ssbauer spectroscopy
  Applied Physics Letters,   Volume  70,   Issue  20,   1997,   Page  2696-2698

S. Kruijer,   W. Keune,   M. Dobler,   H. Reuther,  

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