Applied Physics Letters


ISSN: 0003-6951        年代:1995
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11. Defects responsible for gray tracks in flux‐grown KTiOPO4
  Applied Physics Letters,   Volume  66,   Issue  25,   1995,   Page  3428-3430

M. P. Scripsick,   D. N. LoIacono,   J. Rottenberg,   S. H. Goellner,   L. E. Halliburton,   F. K. Hopkins,  

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12. Measurement of nonlinear absorption and refraction in titanium dioxide single crystal by using a phase distortion method
  Applied Physics Letters,   Volume  66,   Issue  25,   1995,   Page  3431-3432

Yuichi Watanabe,   Masato Ohnishi,   Toshio Tsuchiya,  

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13. Electron drift mobility of oxadiazole derivatives doped in polycarbonate
  Applied Physics Letters,   Volume  66,   Issue  25,   1995,   Page  3433-3435

Hiroaki Tokuhisa,   Masanao Era,   Tetsuo Tsutsui,   Shogo Saito,  

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14. Electron beam induced coalescence in plasma polymer silver composite films
  Applied Physics Letters,   Volume  66,   Issue  25,   1995,   Page  3436-3438

Jens Werner,   Andreas Heilmann,   Falk Mueller,  

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15. Piezoelectric interfacial waves in LiNbO3
  Applied Physics Letters,   Volume  66,   Issue  25,   1995,   Page  3439-3440

E. Danicki,  

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16. Insitureal time studies of the formation of polycrystalline silicon films on glass grown by a layer‐by‐layer technique
  Applied Physics Letters,   Volume  66,   Issue  25,   1995,   Page  3441-3443

T. Akasaka,   I. Shimizu,  

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17. Effect of intrinsic growth stress on the Raman spectra of vacuum‐arc‐deposited amorphous carbon films
  Applied Physics Letters,   Volume  66,   Issue  25,   1995,   Page  3444-3446

Joel W. Ager,   Simone Anders,   Andre Anders,   Ian G. Brown,  

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18. Phonon replicas in the photoluminescence emission of AlxGa1−xAs alloys
  Applied Physics Letters,   Volume  66,   Issue  25,   1995,   Page  3447-3449

D. C. Reynolds,   D. C. Look,   R. Kaspi,   D. N. Talwar,  

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19. Plastic stress relaxation in highly strained In0.30Ga0.70As/GaAs structures
  Applied Physics Letters,   Volume  66,   Issue  25,   1995,   Page  3450-3452

Y. Androussi,   A. Lefebvre,   C. Delamarre,   L. P. Wang,   A. Dubon,   B. Courboule`s,   C. Deparis,   J. Massies,  

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20. Reactive deposition epitaxial growth of &bgr;‐FeSi2film on Si(111):In situobservation by reflective high energy electron diffraction
  Applied Physics Letters,   Volume  66,   Issue  25,   1995,   Page  3453-3455

Lianwei Wang,   Chenglu Lin,   Qinwo Shen,   Xian Lin,   Rushan Ni,   Shichang Zou,  

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