Applied Physics Letters


ISSN: 0003-6951        年代:1997
当前卷期:Volume 70  issue 26     [ 查看所有卷期 ]

年代:1997
 
     Volume 70  issue 1   
     Volume 70  issue 2   
     Volume 70  issue 3   
     Volume 70  issue 4   
     Volume 70  issue 5   
     Volume 70  issue 6   
     Volume 70  issue 7   
     Volume 70  issue 8   
     Volume 70  issue 9   
     Volume 70  issue 10   
     Volume 70  issue 11   
     Volume 70  issue 12   
     Volume 70  issue 13   
     Volume 70  issue 14   
     Volume 70  issue 15   
     Volume 70  issue 16   
     Volume 70  issue 17   
     Volume 70  issue 18   
     Volume 70  issue 19   
     Volume 70  issue 20   
     Volume 70  issue 21   
     Volume 70  issue 22   
     Volume 70  issue 23   
     Volume 70  issue 24   
     Volume 70  issue 25   
     Volume 70  issue 26
     Volume 71  issue 1   
     Volume 71  issue 2   
     Volume 71  issue 3   
     Volume 71  issue 4   
     Volume 71  issue 5   
     Volume 71  issue 6   
     Volume 71  issue 7   
     Volume 71  issue 8   
     Volume 71  issue 9   
     Volume 71  issue 10   
     Volume 71  issue 11   
     Volume 71  issue 12   
     Volume 71  issue 13   
     Volume 71  issue 14   
     Volume 71  issue 15   
     Volume 71  issue 16   
     Volume 71  issue 17   
     Volume 71  issue 18   
     Volume 71  issue 19   
     Volume 71  issue 20   
     Volume 71  issue 21   
     Volume 71  issue 22   
     Volume 71  issue 23   
     Volume 71  issue 24   
     Volume 71  issue 25   
     Volume 71  issue 26   
11. A lower bound on implant density to induce wafer splitting in forming compliant substrate structures
  Applied Physics Letters,   Volume  70,   Issue  26,   1997,   Page  3519-3521

L. B. Freund,  

Preview   |   PDF (149KB)

12. Oxygen surface diffusion in three-dimensionalCu2Ogrowth on Cu(001) thin films
  Applied Physics Letters,   Volume  70,   Issue  26,   1997,   Page  3522-3524

J. C. Yang,   M. Yeadon,   B. Kolasa,   J. M. Gibson,  

Preview   |   PDF (219KB)

13. The dissolution behavior of the void defects by hydrogen annealing in Czochralski grown silicon crystals
  Applied Physics Letters,   Volume  70,   Issue  26,   1997,   Page  3525-3527

K. Nakamura,   T. Saishoji,   J. Tomioka,  

Preview   |   PDF (63KB)

14. Threshold behavior in synchrotron-radiation-stimulated recrystallization during Si homoepitaxy on Si(100)
  Applied Physics Letters,   Volume  70,   Issue  26,   1997,   Page  3528-3530

Housei Akazawa,  

Preview   |   PDF (3640KB)

15. Density and structural changes in SiC after amorphization and annealing
  Applied Physics Letters,   Volume  70,   Issue  26,   1997,   Page  3531-3533

V. Heera,   F. Prokert,   N. Schell,   H. Seifarth,   W. Fukarek,   M. Voelskow,   W. Skorupa,  

Preview   |   PDF (55KB)

16. Theoretical investigation on &dgr; doping of Se atoms in GaAs
  Applied Physics Letters,   Volume  70,   Issue  26,   1997,   Page  3534-3536

Jun Nara,   Taizo Sasaki,   Takahisa Ohno,  

Preview   |   PDF (101KB)

17. Effect of irradiant wavelength during porous silicon formation
  Applied Physics Letters,   Volume  70,   Issue  26,   1997,   Page  3537-3539

Crona Malone,   Jacob Jorne,  

Preview   |   PDF (261KB)

18. Optical absorption edge of semi-insulating GaAs and InP at high temperatures
  Applied Physics Letters,   Volume  70,   Issue  26,   1997,   Page  3540-3542

M. Beaudoin,   A. J. G. DeVries,   S. R. Johnson,   H. Laman,   T. Tiedje,  

Preview   |   PDF (75KB)

19. Near-infrared sideband generation induced by intense far-infrared radiation in GaAs quantum wells
  Applied Physics Letters,   Volume  70,   Issue  26,   1997,   Page  3543-3545

J. Cˇerne,   J. Kono,   T. Inoshita,   M. Sherwin,   M. Sundaram,   A. C. Gossard,  

Preview   |   PDF (62KB)

20. Sequential tunneling current through semiconductor superlattices under intense THz radiation
  Applied Physics Letters,   Volume  70,   Issue  26,   1997,   Page  3546-3548

Gloria Platero,   Ramo´n Aguado,  

Preview   |   PDF (200KB)

首页 上一页 下一页 尾页 第2页 共45条