Applied Physics Letters


ISSN: 0003-6951        年代:1986
当前卷期:Volume 48  issue 23     [ 查看所有卷期 ]

年代:1986
 
     Volume 48  issue 1   
     Volume 48  issue 2   
     Volume 48  issue 3   
     Volume 48  issue 4   
     Volume 48  issue 5   
     Volume 48  issue 6   
     Volume 48  issue 7   
     Volume 48  issue 8   
     Volume 48  issue 9   
     Volume 48  issue 10   
     Volume 48  issue 11   
     Volume 48  issue 12   
     Volume 48  issue 13   
     Volume 48  issue 14   
     Volume 48  issue 15   
     Volume 48  issue 16   
     Volume 48  issue 17   
     Volume 48  issue 18   
     Volume 48  issue 19   
     Volume 48  issue 20   
     Volume 48  issue 21   
     Volume 48  issue 22   
     Volume 48  issue 23
     Volume 48  issue 24   
     Volume 48  issue 25   
     Volume 48  issue 26   
     Volume 49  issue 1   
     Volume 49  issue 2   
     Volume 49  issue 3   
     Volume 49  issue 4   
     Volume 49  issue 5   
     Volume 49  issue 6   
     Volume 49  issue 7   
     Volume 49  issue 8   
     Volume 49  issue 9   
     Volume 49  issue 10   
     Volume 49  issue 11   
     Volume 49  issue 12   
     Volume 49  issue 13   
     Volume 49  issue 14   
     Volume 49  issue 15   
     Volume 49  issue 16   
     Volume 49  issue 17   
     Volume 49  issue 18   
     Volume 49  issue 19   
     Volume 49  issue 20   
     Volume 49  issue 21   
     Volume 49  issue 22   
     Volume 49  issue 23   
     Volume 49  issue 24   
     Volume 49  issue 25   
     Volume 49  issue 26   
11. Pulsed laser treatment of diamondlike carbon films
  Applied Physics Letters,   Volume  48,   Issue  23,   1986,   Page  1585-1587

S. Prawer,   R. Kalish,   M. Adel,  

Preview   |   PDF (297KB)

12. Layer intermixing in HgTe‐CdTe superlattices
  Applied Physics Letters,   Volume  48,   Issue  23,   1986,   Page  1588-1590

David K. Arch,   J. L. Staudenmann,   J. P. Faurie,  

Preview   |   PDF (210KB)

13. Morphological degradation of TiSi2on ⟨100⟩ silicon
  Applied Physics Letters,   Volume  48,   Issue  23,   1986,   Page  1591-1593

P. Revesz,   L. R. Zheng,   L. S. Hung,   J. W. Mayer,  

Preview   |   PDF (258KB)

14. High‐quality pyrographite films
  Applied Physics Letters,   Volume  48,   Issue  23,   1986,   Page  1594-1596

Mutsuaki Murakami,   Kazuhiro Watanabe,   Susumu Yoshimura,  

Preview   |   PDF (206KB)

15. Role of tip structure in scanning tunneling microscopy
  Applied Physics Letters,   Volume  48,   Issue  23,   1986,   Page  1597-1599

Y. Kuk,   P. J. Silverman,  

Preview   |   PDF (240KB)

16. Material reaction and silicide formation at the refractory metal/silicon interface
  Applied Physics Letters,   Volume  48,   Issue  23,   1986,   Page  1600-1602

G. W. Rubloff,   R. M. Tromp,   E. J. van Loenen,  

Preview   |   PDF (294KB)

17. Ordered structures in GaAs0.5Sb0.5alloys grown by organometallic vapor phase epitaxy
  Applied Physics Letters,   Volume  48,   Issue  23,   1986,   Page  1603-1605

H. R. Jen,   M. J. Cherng,   G. B. Stringfellow,  

Preview   |   PDF (270KB)

18. Derivative photocurrent spectrum of an InGaAs/GaAs strained‐layer superlattice
  Applied Physics Letters,   Volume  48,   Issue  23,   1986,   Page  1606-1608

I. J. Fritz,   B. L. Doyle,   T. J. Drummond,   R. M. Biefeld,   G. C. Osbourn,  

Preview   |   PDF (239KB)

19. ‘‘Ballistic’’ injection devices in semiconductors
  Applied Physics Letters,   Volume  48,   Issue  23,   1986,   Page  1609-1611

A. F. J. Levi,   J. R. Hayes,   R. Bhat,  

Preview   |   PDF (228KB)

20. Observation of alternating reconstructions of silicon (001) 2×1 and 1×2 using reflection high‐energy electron diffraction during molecular beam epitaxy
  Applied Physics Letters,   Volume  48,   Issue  23,   1986,   Page  1612-1614

T. Sakamoto,   T. Kawamura,   G. Hashiguchi,  

Preview   |   PDF (270KB)

首页 上一页 下一页 尾页 第2页 共24条