Applied Physics Letters


ISSN: 0003-6951        年代:1989
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11. Doppler profile measurement of Ar and Ar+translational energies in a divergent magnetic field electron cyclotron resonance source
  Applied Physics Letters,   Volume  55,   Issue  1,   1989,   Page  30-32

John S. McKillop,   John C. Forster,   William M. Holber,  

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12. Time‐resolved Raman spectrum of shock‐compressed diamond
  Applied Physics Letters,   Volume  55,   Issue  1,   1989,   Page  33-35

Y. M. Gupta,   P. D. Horn,   C. S. Yoo,  

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13. Kinetics of the solid‐state amorphizing reaction in thin films studied by electrical resistivity
  Applied Physics Letters,   Volume  55,   Issue  1,   1989,   Page  36-38

J. B. Rubin,   R. B. Schwarz,  

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14. Characterization of the CoGa/GaAs interface
  Applied Physics Letters,   Volume  55,   Issue  1,   1989,   Page  39-41

Jane G. Zhu,   C. Barry Carter,   C. J. Palmstro&slash;m,   K. C. Garrison,  

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15. Thermomechanical fracture instability and stick‐slip crack propagation
  Applied Physics Letters,   Volume  55,   Issue  1,   1989,   Page  42-44

I. L. Maksimov,  

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16. Reduction of metal oxides by mechanical alloying
  Applied Physics Letters,   Volume  55,   Issue  1,   1989,   Page  45-46

G. B. Schaffer,   P. G. McCormick,  

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17. Influence of entropy properties on measured trap energy distributions at insulator‐semiconductor interfaces
  Applied Physics Letters,   Volume  55,   Issue  1,   1989,   Page  47-49

Olof Engstro¨m,  

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18. Reduction of trap concentration and interface roughness of GaAs/AlGaAs quantum wells by low growth rates in molecular beam epitaxy
  Applied Physics Letters,   Volume  55,   Issue  1,   1989,   Page  50-52

Ch. Maierhofer,   S. Munnix,   D. Bimberg,   R. K. Bauer,   D. E. Mars,   J. N. Miller,  

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19. Compositional modulation in AlxGa1−xAs epilayers grown by molecular beam epitaxy on the (111) facets of grooves in a nonplanar substrate
  Applied Physics Letters,   Volume  55,   Issue  1,   1989,   Page  53-55

Michael E. Hoenk,   C. W. Nieh,   Howard Z. Chen,   Kerry J. Vahala,  

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20. Passivation of acceptors in InP resulting from CH4/H2reactive ion etching
  Applied Physics Letters,   Volume  55,   Issue  1,   1989,   Page  56-58

T. R. Hayes,   W. C. Dautremont‐Smith,   H. S. Luftman,   J. W. Lee,  

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