Applied Physics Letters


ISSN: 0003-6951        年代:1990
当前卷期:Volume 56  issue 9     [ 查看所有卷期 ]

年代:1990
 
     Volume 56  issue 1   
     Volume 56  issue 2   
     Volume 56  issue 3   
     Volume 56  issue 4   
     Volume 56  issue 5   
     Volume 56  issue 6   
     Volume 56  issue 7   
     Volume 56  issue 8   
     Volume 56  issue 9
     Volume 56  issue 10   
     Volume 56  issue 11   
     Volume 56  issue 12   
     Volume 56  issue 13   
     Volume 56  issue 14   
     Volume 56  issue 15   
     Volume 56  issue 16   
     Volume 56  issue 17   
     Volume 56  issue 18   
     Volume 56  issue 19   
     Volume 56  issue 20   
     Volume 56  issue 21   
     Volume 56  issue 22   
     Volume 56  issue 23   
     Volume 56  issue 24   
     Volume 56  issue 25   
     Volume 56  issue 26   
     Volume 57  issue 1   
     Volume 57  issue 2   
     Volume 57  issue 3   
     Volume 57  issue 4   
     Volume 57  issue 5   
     Volume 57  issue 6   
     Volume 57  issue 7   
     Volume 57  issue 8   
     Volume 57  issue 9   
     Volume 57  issue 10   
     Volume 57  issue 11   
     Volume 57  issue 12   
     Volume 57  issue 13   
     Volume 57  issue 14   
     Volume 57  issue 15   
     Volume 57  issue 16   
     Volume 57  issue 17   
     Volume 57  issue 18   
     Volume 57  issue 19   
     Volume 57  issue 20   
     Volume 57  issue 21   
     Volume 57  issue 22   
     Volume 57  issue 23   
     Volume 57  issue 24   
     Volume 57  issue 25   
     Volume 57  issue 26   
     Volume 57  issue 27   
21. Si/SiO2etch properties using CF4and CHF3in radio frequency cylindrical magnetron discharges
  Applied Physics Letters,   Volume  56,   Issue  9,   1990,   Page  857-859

Geun Young Yeom,   Mark J. Kushner,  

Preview   |   PDF (399KB)

22. Implant isolation of GaAs‐AlGaAs heterojunction bipolar transistor structures
  Applied Physics Letters,   Volume  56,   Issue  9,   1990,   Page  860-862

F. Ren,   S. J. Pearton,   W. S. Hobson,   T. R. Fullowan,   J. Lothian,   A. W. Yanof,  

Preview   |   PDF (339KB)

23. Organometallic chemical vapor deposition of InP/InGaAsP on nonplanar InP substrates: Application to multiple quantum well lasers
  Applied Physics Letters,   Volume  56,   Issue  9,   1990,   Page  863-865

R. Bhat,   E. Kapon,   J. Werner,   D. M. Hwang,   N. G. Stoffel,   M. A. Koza,  

Preview   |   PDF (328KB)

24. Relationship between etch pit densities and oxygen concentrations on CdTe
  Applied Physics Letters,   Volume  56,   Issue  9,   1990,   Page  866-867

Katsuhiro Yokota,   Toshiharu Yoshikawa,   Sigeru Inano,   Takeshi Morioka,   Saichi Katayama,  

Preview   |   PDF (200KB)

25. High coercivity in mechanically alloyed Sm‐Fe‐V magnets with a ThMn12crystal structure
  Applied Physics Letters,   Volume  56,   Issue  9,   1990,   Page  868-870

L. Schultz,   K. Schnitzke,   J. Wecker,  

Preview   |   PDF (282KB)

26. Bragg confinement of carriers in a quantum barrier
  Applied Physics Letters,   Volume  56,   Issue  9,   1990,   Page  871-873

Gadi Lenz,   Joseph Salzman,  

Preview   |   PDF (314KB)

27. Addendum: Large optical nonlinearities in semiconductor superlattices [Appl. Phys. Lett.55, 1609 (1989)]
  Applied Physics Letters,   Volume  56,   Issue  9,   1990,   Page  874-874

M. Jaros,   I. Morrison,  

Preview   |   PDF (43KB)

首页 上一页 下一页 尾页 第3页 共27条