Applied Physics Letters


ISSN: 0003-6951        年代:1998
当前卷期:Volume 73  issue 6     [ 查看所有卷期 ]

年代:1998
 
     Volume 72  issue 1   
     Volume 72  issue 2   
     Volume 72  issue 3   
     Volume 72  issue 4   
     Volume 72  issue 5   
     Volume 72  issue 6   
     Volume 72  issue 7   
     Volume 72  issue 8   
     Volume 72  issue 9   
     Volume 72  issue 10   
     Volume 72  issue 11   
     Volume 72  issue 12   
     Volume 72  issue 13   
     Volume 72  issue 14   
     Volume 72  issue 15   
     Volume 72  issue 16   
     Volume 72  issue 17   
     Volume 72  issue 18   
     Volume 72  issue 19   
     Volume 72  issue 20   
     Volume 72  issue 21   
     Volume 72  issue 22   
     Volume 72  issue 23   
     Volume 72  issue 24   
     Volume 72  issue 25   
     Volume 72  issue 26   
     Volume 73  issue 1   
     Volume 73  issue 2   
     Volume 73  issue 3   
     Volume 73  issue 4   
     Volume 73  issue 5   
     Volume 73  issue 6
     Volume 73  issue 7   
     Volume 73  issue 8   
     Volume 73  issue 9   
     Volume 73  issue 10   
     Volume 73  issue 11   
     Volume 73  issue 12   
     Volume 73  issue 13   
     Volume 73  issue 14   
     Volume 73  issue 15   
     Volume 73  issue 16   
     Volume 73  issue 17   
     Volume 73  issue 18   
     Volume 73  issue 19   
     Volume 73  issue 20   
     Volume 73  issue 21   
     Volume 73  issue 22   
     Volume 73  issue 23   
     Volume 73  issue 24   
     Volume 73  issue 25   
     Volume 73  issue 26   
21. Confocal Raman spectroscopic observation of hexagonal diamond formation from dissolved carbon in nickel under chemical vapor deposition conditions
  Applied Physics Letters,   Volume  73,   Issue  6,   1998,   Page  765-767

Mikka Nishitani-Gamo,   Isao Sakaguchi,   Kian Ping Loh,   Hisao Kanda,   Toshihiro Ando,  

Preview   |   PDF (83KB)

22. Second-harmonic generation from needlelike ferroelectric domains inSr0.6Ba0.4Nd2O6single crystals
  Applied Physics Letters,   Volume  73,   Issue  6,   1998,   Page  768-770

Satoru Kawai,   Tomoya Ogawa,   Howard S. Lee,   Robert C. DeMattei,   Robert S. Feigelson,  

Preview   |   PDF (96KB)

23. Swelling in organic–inorganic multilayer systems
  Applied Physics Letters,   Volume  73,   Issue  6,   1998,   Page  771-773

A. Convertino,   A. Valentini,   M. De Vittorio,   R. Cingolani,  

Preview   |   PDF (512KB)

24. Effect of the silicon top layer of silicon implanted with oxygen on the uptake and release of deuterium by the buried oxide
  Applied Physics Letters,   Volume  73,   Issue  6,   1998,   Page  774-776

L. Zimmermann,   J. M. M. de Nijs,   P. F. A. Alkemade,   K. Westerduin,   A. van Veen,  

Preview   |   PDF (61KB)

25. Strain relaxation of boron nitride thin films on silicon
  Applied Physics Letters,   Volume  73,   Issue  6,   1998,   Page  777-779

W. Donner,   H. Dosch,   S. Ulrich,   H. Ehrhardt,   D. Abernathy,  

Preview   |   PDF (131KB)

26. Mott transition field effect transistor
  Applied Physics Letters,   Volume  73,   Issue  6,   1998,   Page  780-782

D. M. Newns,   J. A. Misewich,   C. C. Tsuei,   A Gupta,   B. A. Scott,   A. Schrott,  

Preview   |   PDF (56KB)

27. Thin multiplication region InAlAs homojunction avalanche photodiodes
  Applied Physics Letters,   Volume  73,   Issue  6,   1998,   Page  783-784

C. Lenox,   P. Yuan,   H. Nie,   O. Baklenov,   C. Hansing,   J. C. Campbell,   A. L. Holmes,   B. G. Streetman,  

Preview   |   PDF (50KB)

28. CuAu-type ordering in epitaxialCuInS2films
  Applied Physics Letters,   Volume  73,   Issue  6,   1998,   Page  785-787

D. S. Su,   W. Neumann,   R. Hunger,   P. Schubert-Bischoff,   M. Giersig,   H. J. Lewerenz,   R. Scheer,   E. Zeitler,  

Preview   |   PDF (163KB)

29. Fatigue characteristics ofSrBi2Ta2O9thin films prepared by metalorganic decomposition
  Applied Physics Letters,   Volume  73,   Issue  6,   1998,   Page  788-790

Z. G. Zhang,   J. S. Liu,   Y. N. Wang,   J. S. Zhu,   F. Yan,   X. B. Chen,   H. M. Shen,  

Preview   |   PDF (76KB)

30. Depth-dependent spectroscopic defect characterization of the interface between plasma-depositedSiO2and silicon
  Applied Physics Letters,   Volume  73,   Issue  6,   1998,   Page  791-793

J. Scha¨fer,   A. P. Young,   L. J. Brillson,   H. Niimi,   G. Lucovsky,  

Preview   |   PDF (77KB)

首页 上一页 下一页 尾页 第3页 共52条