Applied Physics Letters


ISSN: 0003-6951        年代:1987
当前卷期:Volume 50  issue 23     [ 查看所有卷期 ]

年代:1987
 
     Volume 50  issue 1   
     Volume 50  issue 2   
     Volume 50  issue 3   
     Volume 50  issue 4   
     Volume 50  issue 5   
     Volume 50  issue 6   
     Volume 50  issue 7   
     Volume 50  issue 8   
     Volume 50  issue 9   
     Volume 50  issue 10   
     Volume 50  issue 11   
     Volume 50  issue 12   
     Volume 50  issue 13   
     Volume 50  issue 14   
     Volume 50  issue 15   
     Volume 50  issue 16   
     Volume 50  issue 17   
     Volume 50  issue 18   
     Volume 50  issue 19   
     Volume 50  issue 20   
     Volume 50  issue 21   
     Volume 50  issue 22   
     Volume 50  issue 23
     Volume 50  issue 24   
     Volume 50  issue 25   
     Volume 50  issue 26   
     Volume 51  issue 1   
     Volume 51  issue 2   
     Volume 51  issue 3   
     Volume 51  issue 4   
     Volume 51  issue 5   
     Volume 51  issue 6   
     Volume 51  issue 7   
     Volume 51  issue 8   
     Volume 51  issue 9   
     Volume 51  issue 10   
     Volume 51  issue 11   
     Volume 51  issue 12   
     Volume 51  issue 13   
     Volume 51  issue 14   
     Volume 51  issue 15   
     Volume 51  issue 16   
     Volume 51  issue 17   
     Volume 51  issue 18   
     Volume 51  issue 19   
     Volume 51  issue 20   
     Volume 51  issue 21   
     Volume 51  issue 22   
     Volume 51  issue 23   
     Volume 51  issue 24   
     Volume 51  issue 25   
     Volume 51  issue 26   
21. Gated diode leakage and lifetime measurements of misfit dislocation gettered Si epitaxy
  Applied Physics Letters,   Volume  50,   Issue  23,   1987,   Page  1678-1680

Ali S. M. Salih,   Z. Radzimski,   J. Honeycutt,   G. A. Rozgonyi,   K. E. Bean,   K. Lindberg,  

Preview   |   PDF (340KB)

22. Low‐temperature organometallic vapor phase epitaxial growth of CdTe using a new organotellurium source
  Applied Physics Letters,   Volume  50,   Issue  23,   1987,   Page  1681-1683

D. W. Kisker,   M. L. Steigerwald,   T. Y. Kometani,   K. S. Jeffers,  

Preview   |   PDF (296KB)

23. Inclined epitaxy of (411) beta silicon carbide on (511) silicon by chemical vapor deposition
  Applied Physics Letters,   Volume  50,   Issue  23,   1987,   Page  1684-1685

Mitsuhiro Shigeta,   Kenji Nakanishi,   Yoshihisa Fujii,   Katsuki Furukawa,   Akitsugu Hatano,   Atsuko Uemoto,   Akira Suzuki,   Shigeo Nakajima,  

Preview   |   PDF (244KB)

24. Photoluminescence characteristics of AlGaAs‐GaAs single quantum wells grown by migration‐enhanced epitaxy at 300 °C substrate temperature
  Applied Physics Letters,   Volume  50,   Issue  23,   1987,   Page  1686-1687

Yoshiji Horikoshi,   Minoru Kawashima,   Hiroshi Yamaguchi,  

Preview   |   PDF (213KB)

25. Phase diagram and superconductivity in the Y‐Ba‐Cu‐O system
  Applied Physics Letters,   Volume  50,   Issue  23,   1987,   Page  1688-1690

D. G. Hinks,   L. Soderholm,   D. W. Capone,   J. D. Jorgensen,   Ivan K. Schuller,   C. U. Segre,   K. Zhang,   J. D. Grace,  

Preview   |   PDF (290KB)

26. NbN/BN granular films—a sensitive, high‐speed detector for pulsed far‐infrared radiation
  Applied Physics Letters,   Volume  50,   Issue  23,   1987,   Page  1691-1693

M. Leung,   U. Strom,   J. C. Culbertson,   J. H. Claassen,   S. A. Wolf,   R. W. Simon,  

Preview   |   PDF (370KB)

27. High‐corrosion‐resistant magneto‐optical recording media using TbFeCoTi films
  Applied Physics Letters,   Volume  50,   Issue  23,   1987,   Page  1694-1695

M. Kobayashi,   M. Asano,   Y. Maeno,   K. Oishi,   K. Kawamura,  

Preview   |   PDF (153KB)

28. Erratum: Ultrafast absorption recovery due to stimulated emission in GaAs/AlGaAs multiple quantum wells [Appl. Phys. Lett.50, 821 (1987)]
  Applied Physics Letters,   Volume  50,   Issue  23,   1987,   Page  1696-1696

J. Dubard,   J. L. Oudar,   F. Alexandre,   D. Hulin,   A. Orszag,  

Preview   |   PDF (35KB)

首页 上一页 下一页 尾页 第3页 共28条